Électrode électrochirurgicale approuvée ISO CE pour opération chirurgicale
Description
Informations de base
Modèle NON. | TY-RF |
Type de désinfection | EOS |
Durée de conservation | 3 années |
Forfait transport | Plateau en plastique + Blister+ Carton |
Origine | Jiangsu, Chine |
Capacité de production | 300 ensembles/ensembles par mois |
Description du produit
Le courant RF génère de l'énergie entre les deux électrodes de la tête de coupe et excite le milieu conducteur (solution saline physiologique ou fluide corporel) dans la section avant pour générer du plasma. Les particules à haute énergie dans le plasma peuvent décomposer les liaisons moléculaires dans le tissu, de sorte que vaporiser, coaguler, ablater et couper les tissus sous la prémisse du contact avec les tissus.
Lame plasma | Lame HF traditionnelle | |
Médias excitables | NaCI | Sève cellulaire |
Température de fonctionnement | 40-70°C | 120-300°C |
Mode de fonctionnement | Rompre la liaison moléculaire, vaporisation | Énergie calorifique, brûler |
Changement de tissu | Protéine réversible | Protéine irréversible, nécrose |
Principe et méthode | Vaporisation et réduction du volume, élimine l'oppression des racines nerveuses | Nerf sensoriel endommagé, pas de réduction de volume |
Lame | La lame n'est pas chauffée, chaleur causée par un choc ionique <70 °C | La lame est chauffée, coagulation chaude |
Cicatrisation des tissus | Rapide | lent |
·Conseils médicauxLes électrodes sont spécialement conçues pour l'ablation de la thyroïde et l'ablation des ganglions lymphatiques. - Ils ont une pénétration et une maniabilité faciles dans le tissu Lorsqu'un courant RF est appliqué à une bobine plane, un champ magnétique oscillant (champ B) est créé à la fois au-dessus et en dessous. Cela génère un champ électrique RF principalement azimutal. À l'intérieur de la chambre à vide, ce champ E déclenche une avalanche d'électrons qui crée le plasma. Les plasmas radiofréquence (plasmas rf) sont formés dans un flux de gaz par un champ radiofréquence appliqué de l'extérieur. Le rendement de couplage est le rapport de la puissance acceptée par le plasma sur la puissance incidente, c'est-à-dire la sortie de l'oscillateur. La puissance réfléchie est la puissance réfléchie vers l'oscillateur.
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